1200℃迷你型真空气氛管式炉

更新日期：2025-04-03

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简要描述：1200℃迷你型真空气氛管式炉适用范围：主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，应用于高、中、低温CVD工艺，如碳纳米管的研制，晶体硅基板镀膜，金属材料扩散焊接以及真空或气氛下的热处理等。

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    1200℃迷你型真空气氛管式炉

    产品详情：1200℃迷你型真空气氛管式炉采用双层壳体结构，炉腔材料采用高纯氧化铝，壳体两边安装有铝制散热器使得法兰温度小于80℃，内炉腔表面涂有1750℃进口氧化铝涂层材料提高反射率及炉腔洁净度。

    1200℃迷你型真空气氛管式炉适用范围：

    主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，应用于高、中、低温CVD工艺，如碳纳米管的研制，晶体硅基板镀膜，金属材料扩散焊接以及真空或气氛下的热处理等。

产品名称	1200℃迷你型真空气氛管式炉
产品型号	1200℃
炉管尺寸	Φ50*600mm
温区长度	200mm
恒温区长	100mm
炉腔材料	高纯氧化铝纤维
温度	1200℃
正常工作温度	≤1100℃
温控	采用PID方式调节，可设置30段升降温程序
温控	具有超温及断偶报警功能
加热速率	0~20℃/分
加热元件	掺钥铁铭铝电阻丝
工作电压	AC 208-240单相，50/60 Hz
大功率	2.5KW
真空密封系统	炉管两端采用KF法兰进行密封，密封圈为硅胶密封圈
温度测试元件	K型热电偶测温
炉管	石英管

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